光學冷熱台

簡要描述：光學冷熱台支持與(yu) 各類顯微鏡、光譜儀(yi) 等光學儀(yi) 器設備聯用，進行變溫下的光學觀察及測試。
可在 -190~600℃ / RT~1200℃ 的溫度範圍內(nei) 進行溫控，實現樣品在氣密 / 真空環境下的變溫光學觀察及測試。

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產(chan) 品型號：

H1200

產(chan) 品性能：

光學冷熱台支持與(yu) 各類顯微鏡、光譜儀(yi) 等光學儀(yi) 器設備聯用，進行變溫下的光學觀察及測試。

光學冷熱台可在 -190~600℃ / RT~1200℃ 的溫度範圍內(nei) 進行溫控，實現樣品在氣密 / 真空環境下的變溫光學觀察及測試。

產(chan) 品特點：

•溫度範圍：-190~600℃ / RT~1200℃

•溫度穩定性：±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃）

•支持反射/透射模式

•氣密腔室，可通保護氣體(ti)

•腔室可升級真空腔室（10^(-3) mbar）

•上位機軟件控製支持改動或定製

產(chan) 品參數：

型號		H1200
溫控模塊	冷熱方式	電阻加熱
	溫控範圍	RT～1200℃ *
	溫度穩定性	±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）*
	溫度分辨率	0.1℃
	升降溫速率	0~50℃/min（可定點 / 程序段控溫）
	溫控方式	PID
	溫度傳(chuan) 感器	熱電偶
光學特性	光路	反射光路
	視窗材質	石英玻璃 *
	視窗尺寸	Φ25mm *
	物鏡工作距離	6mm *
	透光孔	反射
結構特性	樣品台尺寸	20×20mm *
	樣品台材質	陶瓷 *
	外形尺寸	120×120×25mm *
	樣品腔高度	5mm *
	腔室	氣密 *可升級真空
	外殼冷卻	循環水
基本配置	光學冷熱台x1、溫度控製器x1、致冷控製器x1（低溫配置）、液氮罐x1（低溫配置）、循環水係統x1（高溫配置）、溫控軟件x1、連接管路若幹（帶*為(wei) 可定製）
其他配置	電腦主機/安裝支架/真空係統/循環水係統/定製溫控軟件

產(chan) 品細節圖：

公司簡介：

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